![[서강대학교 러너톤] 반도체 패터닝 공정 데이터 분석 및 Etch Bias 최적화 에이전트 개발](https://media.bkamp.ai/uploads/project_thumbnail/1da7e699-8250-4109-8c21-abaa424d7360/7c2c3312-095d-4971-b213-e5be0ba5fb26.png)
LLM 기반의 Data Analysis Agent를 활용하여 노광(Exposure) 및 현상(Developing) 시간이 식각 편차(Etch Bias)에 미치는 영향을 통계적으로 분석하고, 최적의 선폭(CD) 제어 조건을 도출하는 지능형 공정 최적화 솔루션입니다.
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LLM 기반의 Data Analysis Agent를 활용하여 노광(Exposure) 및 현상(Developing) 시간이 식각 편차(Etch Bias)에 미치는 영향을 통계적으로 분석하고, 최적의 선폭(CD) 제어 조건을 도출하는 지능형 공정 최적화 솔루션입니다.
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