LLMベースのData Analysis Agentを活用して、露光時間と現像時間がエッチング偏差に与える影響を統計的に分析し、最適な線幅（CD）制御条件を導出するインテリジェントプロセス最適化ソリューションです。
![[서강대학교 러너톤] 반도체 패터닝 공정 데이터 분석 및 Etch Bias 최적화 에이전트 개발](https://media.bkamp.ai/uploads/project_thumbnail/1da7e699-8250-4109-8c21-abaa424d7360/7c2c3312-095d-4971-b213-e5be0ba5fb26.png)
전자공학 졸업 예정입니다. RAG 기반으로 포토 공정에서 나온 공정 데이터를 분석하는 것을 목표로 합니다. -포토 공정 csv 데이터 파일 보유 -Sentaurus TCAD 기반 소자 설계 경험 有 -[Python] CNN 모델링 경험 有
LLMベースのData Analysis Agentを活用して、露光時間と現像時間がエッチング偏差に与える影響を統計的に分析し、最適な線幅（CD）制御条件を導出するインテリジェントプロセス最適化ソリューションです。
전자공학 졸업 예정입니다. RAG 기반으로 포토 공정에서 나온 공정 데이터를 분석하는 것을 목표로 합니다. -포토 공정 csv 데이터 파일 보유 -Sentaurus TCAD 기반 소자 설계 경험 有 -[Python] CNN 모델링 경험 有
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