LLM 기반의 Data Analysis Agent를 활용하여 노광(Exposure) 및 현상(Developing) 시간이 식각 편차(Etch Bias)에 미치는 영향을 통계적으로 분석하고, 최적의 선폭(CD) 제어 조건을 도출하는 지능형 공정 최적화 솔루션입니다.

소개

LLM 기반의 Data Analysis Agent를 활용하여 노광(Exposure) 및 현상(Developing) 시간이 식각 편차(Etch Bias)에 미치는 영향을 통계적으로 분석하고, 최적의 선폭(CD) 제어 조건을 도출하는 지능형 공정 최적화 솔루션입니다.

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