这是一个智能工艺优化解决方案，它通过统计分析曝光和显影时间对蚀刻偏差的影响，并利用基于 LLM 的数据分析代理得出最佳 CD 控制条件。
![[서강대학교 러너톤] 반도체 패터닝 공정 데이터 분석 및 Etch Bias 최적화 에이전트 개발](https://media.bkamp.ai/uploads/project_thumbnail/1da7e699-8250-4109-8c21-abaa424d7360/7c2c3312-095d-4971-b213-e5be0ba5fb26.png)
전자공학 졸업 예정입니다. RAG 기반으로 포토 공정에서 나온 공정 데이터를 분석하는 것을 목표로 합니다. -포토 공정 csv 데이터 파일 보유 -Sentaurus TCAD 기반 소자 설계 경험 有 -[Python] CNN 모델링 경험 有
这是一个智能工艺优化解决方案，它通过统计分析曝光和显影时间对蚀刻偏差的影响，并利用基于 LLM 的数据分析代理得出最佳 CD 控制条件。
전자공학 졸업 예정입니다. RAG 기반으로 포토 공정에서 나온 공정 데이터를 분석하는 것을 목표로 합니다. -포토 공정 csv 데이터 파일 보유 -Sentaurus TCAD 기반 소자 설계 경험 有 -[Python] CNN 모델링 경험 有
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